膜厚的量測方法大致上可分為（wéi）原位量測、離位量測兩類 

原位星測係（xì）指鍍膜進行中量測，普遍使用在物理（lǐ）氣相（xiàng）沉積（jī），如微天平、光（guāng）學、電阻量測。

離位量測係指鍍膜完成後量測，對電鍍膜的行使較為普遍，具有了（le）解電鍍效率的（de）目的，如質量、剖麵（miàn）計、掃描式（shì）電子顯微鏡。