磁控濺射鍍膜技術介紹
作者： 來源： 日期（qī）：2020-06-08 9:18:10 人氣：19172
磁控濺射鍍膜設備是一種具有結構簡單、電器控製穩定性好等優（yōu）點的真空鍍（dù）膜機，其工藝技術的（de）選擇對薄膜（mó）的性能具有重要影響。
磁控濺射鍍膜技（jì）術在（zài）陶瓷表麵裝飾（shì）中采用的工藝流程如下：
陶瓷片→超聲清洗→裝夾（jiá）→抽本底真空→plasma清洗→加熱→通氬氣→預濺射→抽本底（dǐ）真空→濺射(或多次濺射)→鍍AF膜→破真空卸片→表麵檢驗→性能測試→包裝（zhuāng）、入庫。
以上工藝技術是以磁控濺射鍍膜設備為基礎，選用合適的靶材和濺射工藝，製出超硬的耐磨鍍層，可（kě）以實現材料的高硬度、高耐磨、高（gāo）耐劃傷特性；
同時，利用NCVM光學膜（mó）結構設計，設計出各層（céng）不同折射率材料，可以調（diào）配出任意顏（yán）色，使得陶瓷不僅硬度（dù）高、強度高，具備外（wài）觀件（jiàn）時尚、美觀的特點，而且不會屏蔽電磁信號。
磁控濺射鍍膜設備配合NCVM工藝，能夠實現對於陶瓷電子（zǐ）消（xiāo）費品的表麵（miàn）裝飾處理（lǐ），在保證陶瓷（cí）強度和硬度（dù）的同時，也能夠提升其美觀（guān）性（xìng）和（hé）藝術性（xìng），更好地滿（mǎn）足消（xiāo）費者的個性化（huà）需求。
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