HL係列多弧離子真空鍍膜機

日(rì)期:2016-01-13 10:01:54 人氣:108751
HL係列多弧離子真空鍍膜機

工作原理

HL係列多弧離子真空鍍膜機工作原理是把真(zhēn)空弧(hú)光放電技術(shù)用於蒸發源的技術,即在(zài)真空環境下引燃蒸發源(陰極),與陽極之間形成自持弧(hú)光放電,既從陰極弧光(guāng)輝點放出陰(yīn)極物質的離子。由於(yú)電流局部的集中,產生(shēng)的焦耳熱使陰極材料局部的爆發性地等離子化,在工(gōng)件偏壓的作用下與反應氣體化合,而沉積在工件表麵上形成被鍍的(de)膜(mó)層。

應用範圍

1、鍾表行業(表帶、表殼(ké)、表盤(pán)等)
2、五金行業(衛生潔具、門把手、拉手、門鎖等)
3、建築行業(yè)(不鏽鋼板、樓梯扶手、立柱等)
4、精密模具業(衝棒標準件模具、成型模具等)
5、工具行業(鑽頭、硬質合金、銑刀、拉(lā)刀、刀(dāo)頭)
6、汽車工業(活塞、活塞環、合金輪轂等)以及鋼筆、眼鏡等等,使其表麵得到既美觀又耐磨的功能性磨層。主要鍍(dù)製的膜層(céng)有:離子金、離子銀、氮化鈦(tài)膜、碳化鈦膜、氮化鋯膜、鈦鋁合金膜、氮化鉻以及RP鍍等超硬功能性金屬膜,經離子鍍膜加工後的工件,可(kě)以提(tí)高硬度、耐磨度,抗腐蝕和美化的(de)作用(yòng)。 
7、有色金屬製品(如銅、鋁、鋅、鎂(měi)等)不需水鍍直接鍍製膜層。

產品特點

1、裝備低溫離子輔助源,無需加熱直接常溫冷鍍成膜,節(jiē)能省電,提(tí)高產能。
2、沉積(jī)速率高,鍍(dù)膜速度快,覆(fù)蓋領域廣,可以在多種產品(pǐn)上鍍製各(gè)類裝飾膜或功能膜,是中、高端產品大量生產的適(shì)合設(shè)備。

技術參數表(biǎo)

HL係(xì)列多弧離(lí)子真(zhēn)空鍍膜機     
型號(hào)HL-600HL-800HL-1000HL-1200HL-1400HL-1500HL-1600
真空(kōng)室(shì)尺寸 Φ600×800MMΦ800×1000MMΦ1000×1200MMΦ1200×1400MMΦ1400×1600MMΦ1500×1500MMΦ1600×1800MM
真空機(jī)組KT400擴散泵機組KT500擴散泵機(jī)組(zǔ)KT500擴散(sàn)泵機組(zǔ)KT630擴散泵機(jī)組雙KT630擴散泵機組(zǔ)雙KT630擴散泵機組(zǔ)雙KT630擴(kuò)散泵(bèng)機組
鍍膜係統專用多弧鍍膜電源+多功能孿(luán)生磁環弧靶+柱形弧靶(bǎ)(可(kě)選配)
輔助鍍(dù)膜係統(tǒng)低溫離子輔助源(除工具鍍外無需加溫係統)
充氣係統質量流量計質(zhì)量流量計質量流量計質量流量(liàng)計質量流量計質量(liàng)流量計質量(liàng)流量計
控製方式手(shǒu)動或全自動手動或全自動(dòng)手動或全自動手動(dòng)或全自動手動或全自(zì)動手動或全自動手動或(huò)全自(zì)動
抽氣速率5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min
極限真空5X10-4Pa5X10-4Pa5X10-4Pa5X10-4Pa5X10-4Pa5X10-4Pa5X10-4Pa
備注(zhù)以上設備參數僅做(zuò)參考,具體均按客戶(hù)實(shí)際(jì)工藝要求設計訂做
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