磁控濺射是一種 (PVD) 工藝，是製造（zào）半導體、磁盤驅動器、CD 和光學器件的主要薄膜沉積方法。以下是磁控濺射中常見（jiàn）的問（wèn）題。小編列出了可能（néng）的原因和相關解決方案供您（nín）參考。

● 問題一：薄膜灰黑或（huò）暗黑
● 問題二：漆膜表麵暗淡無光澤
● 問題三：薄膜顏色不均勻
● 問題四：起皺、開裂
● 問題五：薄膜表麵有（yǒu）水印、指紋和（hé）灰粒

 薄膜灰黑或暗黑 
丨真空度小於0.67Pa；真空度（dù）應提高到0.13-0.4Pa。
丨（shù）氬氣純度小於（yú）99.9%；氬氣（qì）應更換為純度為 99.99%。
丨（shù）充氣係統漏氣；應檢查充氣係統以消除漏氣。
丨薄（báo）膜未充分固化；薄膜的固化時間應適當延長。
丨鍍件排出的氣體量過大；應（yīng）進行（háng）幹燥和密封。

 漆膜表麵無光澤 
丨薄膜（mó）固化不良或變質（zhì）；應延長薄膜固化時間或更換底漆。
丨磁控（kòng）濺射時間過長；施工（gōng）時間應適當縮短（duǎn）。
丨磁（cí）控（kòng）濺射成膜速度太快；磁控濺射電流或電壓應適當降低。

 薄膜顏色不均勻 
丨底漆噴塗不均；底漆的使（shǐ）用方法有待改進。
丨膜層（céng）太薄；應（yīng）適（shì）當提高磁控（kòng）濺射速率或延長磁（cí）控濺射時間。
丨夾具設計不合理；應改進夾具設計。
丨鍍件幾何（hé）形狀過（guò）於複雜；鍍件的轉速應適當提高。

 起皺、開裂 
丨底漆噴得太厚；應控製噴霧的厚度。
丨（shù）塗層粘度過高；應適當（dāng）降低塗料的粘度。
丨蒸發速度過快；蒸發速度應適當減慢。
丨膜層太厚；濺射時間應適當縮短（duǎn）。
丨電鍍溫度過高；鍍件的加熱時間應適當縮短。

 薄膜表麵有水印、指（zhǐ）紋和灰粒 
丨鍍件清洗後未充分幹燥；應加強（qiáng）鍍前處理。
丨在鍍件表麵潑水或唾液；加強（qiáng）文明生產，操作人員戴口罩。
丨塗底漆後，手接觸鍍件，表麵留下指紋；嚴禁用手觸（chù）摸鍍件表麵。
丨有顆粒物，應過（guò）濾或除塵。
丨靜電除塵失敗或噴塗固化環境有顆粒粉塵；應更換（huàn）除塵器並清潔工作環境。


除以上常（cháng）用材料外，金屬（shǔ）靶材還有鎳、鋁、鉭、鉿、錳、銅、鋅、銦、錫、等，均有在鍍膜中使用。多質（zhì）靶材如鈦鋁、鉻（gè）鋁（lǚ）、鈦鋯、銅錳、鎳鉻、矽鋁（lǚ）、釩錸、鎢鉬等（děng）。

下（xià）一個：紫外線燈在真空鍍（dù）膜上的光固化塗（tú）料的運用